반도체 세척하는 특수 가스: 효성화학의 NF3

 

정리. 편집실

 

 

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반도체 수명 연장하는 세정제

 

NF3(삼불화질소)는 각종 전자기기에 들어가는 반도체나 LCD 및 태양전지의 제조 공정에서 발생하는 이물질을 세척하는 데 사용됩니다. 쉽게 말해 ‘세정 가스’인 셈이죠. 반도체 등 디스플레이류에 도면 같은 그림을 그릴 때 찌꺼기가 나오는데, 디스플레이류는 워낙 민감한 장치이므로 찌꺼기를 표면에서 제거해줘야 하는 것. 이때 사용하는 가스가 NF3입니다. NF3는 암모니아(NH3)와 정제된 불화수소(HF)를 고온, 고압 반응을 통해 추출하고 정제하는 과정을 통해 만들어지는데요, NF3 순도가 높을수록 세정률이 올라가 반도체와 디스플레이 장비의 수명을 연장시킵니다. 모노실란(SiH4), 헬륨(He)과 함께 반도체, LCD 제조 공정에서 가장 많은 양이 사용되는 물질이기도 합니다.

 

NF3

반도체, 디스플레이, 태양전지의 경우 웨이퍼(Wafer) 위에 절연막이나 전도막을 입히는 화학적 증기증착방법(CVD)을 활용하는 공정이 있습니다. CVD 공정 후 남아 있는 잔류물을 제거해야 하는데, 이때 사용하는 것이 산업용 특수 가스 NF3입니다.

 

 

 

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순도 99.999% 이상의 최고 품질

 

무색의 비반응성 가스인 NF3는 안정성이 뛰어난 비인화성 기체로, 수송과 저장이 용이하면서도 배출 가스 발생이 적습니다. 특히 효성화학의 NF3는 99.99~99.999%의 고순도로 뛰어난 품질을 자랑하죠. 효성화학 Neochem PU는 2000년대 초반부터 연구를 시작해 고순도 NF3 정제 기술을 자체적으로 개발했습니다. 지속적인 연구 끝에 99.999%의 고순도까지 생산, 공급이 가능하게 된 것입니다.

NF3의 시장 전망 또한 밝다. 최근 반도체 공정 스텝 수의 증가, 3D 낸드 시장의 성장, OLED 패널 보급 등으로 NF3의 사용 물량도 중장기적으로 늘어날 전망입니다. 최근에는 중국이 반도체 산업 육성을 위해 2025년까지 무려 176조 원을 쏟아 붓겠다는 계획을 발표했고, 이에 따라 시장의 급팽창이 예고된 상태죠. 앞으로 효성은 NF3 신•증설을 시작으로 향후 10년간 총 6,000억 원을 추가 투자해 세계 2위의 공급 업체로 올라설 계획입니다.

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